功能与设备
对于在最高600 ℃的高真空条件下进行的工艺，窑炉将配备相应的高真空技术。
- 工艺控制面板 H 1700 带PLC 控制
- 涡轮分子泵，配备前级泵，冷炉内的极限真空可达 < 10-5 mbar
- 用于保护气体或压缩空气的工艺气体接口，可在工艺结束后注入炉膛
其他产品
对于在最高600 ℃的高真空条件下进行的工艺，窑炉将配备相应的高真空技术。