可燃性または不燃性の保護ガスまたは反応ガス下や真空状態でのプロセス用のレトルト炉

多様なアクセサリーを使用すれば、弊社のプロフェッショナル管状炉をプロセスに合わせて理想的に調整できます。 さまざまなタイプのガスパージパッケージを使用して、保護ガス雰囲気、真空、または、可燃性保護ガスまたは反応ガス下で作業できます。 プロセスの制御には、快適な標準コントローラに加えて、最先端の PLC 制御システムも使用できます。

• 水平運転または垂直運転用の管状炉（スタティック）、最高温度 1100 °C ～ 1800 °C（真空の場合は最高温度 1400 °C）
• 最高温度 1100 °C または 1300 °C のバッチプロセスまたは連続プロセス用の回転管状炉
• さまざまな作業管材料、多様なプロセス要件向けに設計
• 運転説明書に従った正しい使用
• Nabertherm コントローラ用のNTLog Basic: USB スティックを使用してプロセスデータを記録

追加装備

• 不燃性または可燃性保護ガスまたは反応ガス用のさまざまなガスパージパッケージ
• 真空運転
• 温度均一性を最適化するための複数ゾーンタイプ
• 作業管内および管の外側の炉室内の温度計測による装入制御
• 追加熱電対を使用して作業管内の温度を表示
• 作業管とチャージを素早く冷却するための冷却システム
• 適切なプロセス最適化のための個別ソリューション