マイクロエレクトロニクス産業用オーブン
多層セラミック (LTCC など) からマイクロエレクトロニクス部品を製造する場合、処理時間、温度制御、温度均一性の点で熱処理プロセスに対する特別な要求があります。ナーバザムは、マイクロエレクトロニクス産業の要求に合わせて特別に調整したバッチ式および連続式プロセス用のソリューションを提供しています。

多層セラミック (LTCC など) からマイクロエレクトロニクス部品を製造する場合、処理時間、温度制御、温度均一性の点で熱処理プロセスに対する特別な要求があります。ナーバザムは、マイクロエレクトロニクス産業の要求に合わせて特別に調整したバッチ式および連続式プロセス用のソリューションを提供しています。
この特有プロセスにはどの炉が最適なのでしょうか?答えを見つけるのは容易ではありません。よって弊社ではお客様に弊社の代表的な炉ー多種のサイズで比類の無い現代技術を備えた多様の炉ーを試作目的用に準備しております。