機能と設備
このコンパクトな管状炉には SiC 棒状加熱装置およびコントローラのある統合切替システムが装備されています。汎用性があるので、多くのプロセスで使用できます。高温領域での手ごろな価格のタイプです。アクセサリーの取付けオプションを標準利用できるので、その他の用途領域向けに柔軟に使用できます。作業管に平行に配置されている SiC 加熱ロッドが優れた温度均一性を確保します。
標準タイプ
- 最高温度1600 °C
- 作業温度1500、高温の作業では摩擦が増加
- 低い外部気温と高い安定性のための、二重壁構造で炉の後壁に空気吸入口がある、ステンレス圧延板製のケーシング
- EC 規則 No 1272/2008（CLP）に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用。ヒトに対して発がん性がある可能性があると分類されているケイ酸アルミニウムウール（RCF ファイバーとも呼ばれます）は使用していません。
- アクティブなハウジング冷却による表面低温度
- セラミック製作業管 C 799、空気中での運転用のファイバープラグ 2 個付き
- S熱電対
- 半導体リレーによる低騒音の加熱動作
- 簡単に交換できる SiC 発熱体
- 操作説明書の枠内における規定どおりの使用
- ナーバサーム・コントローラー用NTLog Basic、プロセスデータをUSBスティックに記 録
- タッチスクリーン操作のコントローラーP580それぞれ 40 つのセグメントのある 50 つのプログラム）
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