連続運搬のあるプロセス用の回転管状炉、最高温度 1300 °C

RSRC シリーズの回転管状炉は、連続して運搬されるチャージ材料を短時間で加熱するプロセスに特に適しています。これらの回転管状炉は、大変フレキシブルなので、さまざまな目的に使用できます。回転管状炉は簡単に傾けて、目的温度にすることができます。材料は上の管端に連続して供給されます。管の加熱された領域を通って、下の管端から落ちます。熱処理の時間は、傾斜角度、回転速度、作業管の長さ、および、チャージ材料の流動特性によって異なります。オプションの閉式ガスパージシステムを取り付ければ、回転管状炉を、定義された雰囲気下、または、真空でのプロセスに使用できます。プロセス、チャージ、および、必要な最高温度に応じて、さまざまな材料製の作業管を使用できます。

標準タイプ

• 最高温度 1100
  • 石英ガラス製の両面開放型作業管
  • N タイプの熱電対
• 最高温度 1300
  • 両側が開いたセラミック作業管 C 530
  • S タイプの熱電対
• 半導体リレーによる低騒音の加熱動作
• ヒーターエレメントは支持パイプに熱を放出します
• 低い外部気温と高い安定性のための、二重壁構造で炉の後壁に空気吸入口がある、ステンレス圧延板製のケーシング
• EC 規則 No 1272/2008（CLP）に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用。ヒトに対して発がん性がある可能性があると分類されているケイ酸アルミニウムウール（RCF ファイバーとも呼ばれます）は使用していません。
• 駆動装置は約 0.5～20 回転/分で調整自在
• 回転炉の傾斜角度を示すデジタル表示器
• 炉ケーシングを開くことができるので、作業管を容易に交換できます（開く際の温度は 180  °C 未満）
• コンパクトな装置、炉が下記設備とともに台枠に取り付けられています。
  • 傾斜角度を調節するクランクのある手動スピンドルドライブ
  • 統合されたコントローラーと開閉装置
  • 移動用ローラー
• 操作説明書の枠内における規定どおりの使用
• ナーバサーム・コントローラー用NTLog Basic、プロセスデータをUSBスティックに記 録
• タッチスクリーン操作のコントローラーB500（それぞれ 4 つのセグメントのある 5 つのプログラム）